질화알루미늄은 높은 전기 저항과 결합된 높은 열전도율로 인해 주로 사용됩니다.
따라서 특히 열팽창 계수가 실리콘에 가깝기 때문에 전기 및 전자 응용 분야에서 흥미로운 방열 장치입니다.
또한 AIN은 산화 및 마모에 강합니다. 질화알루미늄은 N2 분위기에서 알루미나를 환원시켜 합성된다.
생산에는 회로 기판 소결 공정이 사용됩니다. 재료를 더 조밀하게 만들기 위해
AIN 입자의 항상 남아 있는 표면 산소가 촉매(희토류 또는 알칼리 토류 산화물)의 존재 하에 사용됩니다.
따라서 좋은 소결을 위해서는 약간의 잔여 산화물이 필요합니다.
그러나 산소 함량이 최종 제품의 물성을 저하시키므로 AIN 분말의 산소 수준은 소결 종료 시
대부분 제거되도록 조정해야 합니다.
이는 산소 %의 변화가 0.2% 질량 범위 내에 있어야 함을 의미합니다.
이 애플리케이션 노트는 AIN에서 산소 측정에 필요한 정밀도를 유지하면서
높은 수준의 질소를 측정하는 EMGA-920의 관련성을 보여줍니다.
질화알루미늄은 높은 전기 저항과 결합된 높은 열전도율로 인해 주로 사용됩니다.
따라서 특히 열팽창 계수가 실리콘에 가깝기 때문에 전기 및 전자 응용 분야에서 흥미로운 방열 장치입니다.
또한 AIN은 산화 및 마모에 강합니다. 질화알루미늄은 N2 분위기에서 알루미나를 환원시켜 합성된다.
생산에는 회로 기판 소결 공정이 사용됩니다. 재료를 더 조밀하게 만들기 위해
AIN 입자의 항상 남아 있는 표면 산소가 촉매(희토류 또는 알칼리 토류 산화물)의 존재 하에 사용됩니다.
따라서 좋은 소결을 위해서는 약간의 잔여 산화물이 필요합니다.
그러나 산소 함량이 최종 제품의 물성을 저하시키므로 AIN 분말의 산소 수준은 소결 종료 시
대부분 제거되도록 조정해야 합니다.
이는 산소 %의 변화가 0.2% 질량 범위 내에 있어야 함을 의미합니다.
이 애플리케이션 노트는 AIN에서 산소 측정에 필요한 정밀도를 유지하면서
높은 수준의 질소를 측정하는 EMGA-920의 관련성을 보여줍니다.